★光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用，達到去除黏附在材料表面上的有機   物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”?！锕ぷ髟硎抢米贤夤庾訉τ袡C物質所起的光敏氧化作用以達到清洗粘附在物體表   面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的   ?！镌趯嶋H應用中，通常是利用一種能產生兩種波長的紫外燈，這種UV燈能夠產生波長   為254nm、185nm的紫外光（通常185nm波長的僅為254nm波長光的20%）?！锔鶕粞酰?3）產生程度分S型，H型，L型。根據形態(tài)分為D型-直管，U型，N 型，M型等。 適用范圍1、LCD, PDP, OLED,半導體硅芯片，集成電路、高精度印制電路板清洗和    表面改質。2、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料。3、有機玻璃，PP, PE菲林。