產(chǎn)品信息 名稱： 鋁靶材/Al Target 純度： 99.999% 尺寸： φ50.8*3，φ76.2*3 品牌： 金源新材 優(yōu)勢(shì)： 純度高，導(dǎo)電性能好 用途：磁控濺射鍍膜 工藝：熔煉 包裝：真空包裝 交貨期：現(xiàn)貨 運(yùn)輸：順豐快遞 起訂量：1片 產(chǎn)品制作工藝  北京金源新材新材提供的金屬靶材按照生產(chǎn)工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩種：   金屬靶材如鋁、銅、鐵、鎳等均采用熔煉鑄造工藝，以高純金屬為原料，通過熔煉、鍛造、熱處理和精機(jī)械加工而成；產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：純度高，晶粒尺寸小而均勻，表面平整。   難熔金屬靶材如鎢、鉬、鉭、鈮、鉻等均采用粉末冶金工藝，以高純超細(xì)粉末為原料，通過熱等靜壓等工藝加工成坯，軋制熱處理，機(jī)械加工后制成靶材；產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：靶材孔隙率低，相對(duì)密度高，結(jié)構(gòu)均勻。