采用大型平面靶技術，可以在玻璃上面鍍制單質金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜，可以根據(jù)需要配置多個真空室，每個真空室根據(jù)需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨立的真空抽氣系統(tǒng)，可以隨意調節(jié)各個真空室的氣體參數(shù)，鍍制不同的膜層，可以滿足工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領域。 技術參數(shù)： 鍍膜產(chǎn)品較大尺寸：1200*2400等規(guī)格，可根據(jù)客戶的具體需求設計而設計制造。 夾具方式：連續(xù)式平面移動方式。 各個機型均可選擇手動、自動控制系統(tǒng)。