磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。     磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。 平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List 1. 鉻靶（Cr Target） 2. 硅靶（Si Target） 3. 鈦靶（Ti Target ） 4. 石墨靶（C Target） 5. 銀靶（ Ag Target） 6. 銅靶（ Cu Target）  7. 鈦鋁合金靶（TiAl Alloy Target）  8. 鎳鉻合金靶（NiCr Alloy Target）  9. 氧化鈦靶（TiOx Target）  10. 鉬鈮靶 （MoNb Target) 11. 鋁釹靶 （AlNd Target) 12. 氧化鈮靶 (NbOx Target） 13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target) 14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target ) 15. 鉬靶 (Mo Target) 1 靶材應(yīng)用行業(yè)分類(lèi) 1.1 裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管； 鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦靶，鈦管靶，鋯靶； 金靶，玫瑰金靶； 石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等。 1.2 太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)靶材 氧化鋅鋁靶ZAO； 硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬 靶等。 1.3 建筑汽車(chē)玻璃大面積鍍膜 硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶。 1.4 平面顯示行業(yè) ITO 靶；二氧化硅靶；高純硅靶5-7N；高純鉻靶3N5；TFT 鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦 靶90/10wt%；高純鋁靶等。 1.5 光學(xué)，光通信，光存儲(chǔ)行業(yè) 銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶。 2 常用靶形 常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。 2.1 平面靶材利用率提高方式 （1）改變磁鐵運(yùn)動(dòng)方向 （2）改變磁力線分布寬度和高度 2.2 靶材性能與要求 靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學(xué)等性能，因而對(duì)靶材質(zhì)量的評(píng)判較為嚴(yán)格，主 要應(yīng)滿足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與組織結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細(xì)小。 2.3 劣質(zhì)靶材缺陷 a)和b)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況 c)靶面有凹痕為引弧針安裝不當(dāng)導(dǎo)致的 d)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別 e)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良