平面石墨靶，20 世紀(jì)90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高端品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距，國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展也涌現(xiàn)了一批在靶材行業(yè)優(yōu)秀的公司和院校。在國(guó)內(nèi)占據(jù)了大部分中等和要求不高的靶材市場(chǎng)份額。   1 靶材應(yīng)用行業(yè)分類(lèi) 1.1 裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管； 鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）； 鈦靶，鈦管靶，鋯靶； 金靶，玫瑰金靶； 石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等。 1.2 太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)靶材 氧化鋅鋁靶ZAO； 硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬 靶等。 1.3 建筑汽車(chē)玻璃大面積鍍膜 硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶。 1.4 平面顯示行業(yè) ITO 靶；二氧化硅靶；高純硅靶5-7N；高純鉻靶3N5；TFT 鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦 靶90/10wt%；高純鋁靶等。 1.5 光學(xué)，光通信，光存儲(chǔ)行業(yè) 銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶。   2 常用靶形 常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。 2.1 平面靶材利用率提高方式 （1）改變磁鐵運(yùn)動(dòng)方向 （2）改變磁力線分布寬度和高度 2.2 靶材性能與要求 靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學(xué)等性能，因而對(duì)靶材質(zhì)量的評(píng)判較為嚴(yán)格，主 要應(yīng)滿足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與組織結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細(xì)小。 2.3 劣質(zhì)靶材缺陷 a)和b)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況 c)靶面有凹痕為引弧針安裝不當(dāng)導(dǎo)致的 d)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別 e)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良